怎么设计创意的圆角字体? PS和AI绘制创意设计艺术字的技巧

使用PS和AI设计【创意设计】艺术字，效果如图。

打开AI，新建一个1200px*800px的画布，选择【文字工具】输入“创意设计”，字体为【创意简中圆】，大小为320pt，将文字中对齐，然后与画布上下左右对齐，将文字的不透明度改为50%，如下图所示；

选择【钢笔工具】，用钢笔勾画出“创”的轮廓，关掉填充，选择黑色描边，如下图所示；

继续用钢笔勾画剩下字体，按住【shift键】可保持线的平直，如下图所示；

是cc版本的AI，可以选中圆弧需要处理的锚点，拖动锚点，拉出圆弧，不是cc版本的AI，可通过锚点调整，也可以在需要圆弧的处理的地方画等宽的圆，通过删减锚点实现，如下图所示；

选中“创意设计”的轮廓，改变其描边大小，粗细为32pt，端点为圆头断点，边角为圆角连接，添加“意”中的点，如下图所示；

选中“创意设计”的轮廓，选择【对象】-【扩展】，参数如下图所示；

选中“创意设计”的轮廓，选择【窗口】-【路径查找器】，然后选择合并路径，如下图所示；

打开PS，新建一个1200px*800px的画布，将“创意设计”复制到ps图层中，将图层1复制一层，命名为创意设计，将图层眼睛关掉，如下图所示；

将背景图层填充为黑色，选中设计创意图层，锁定它的透明像素，将它填充为白色，如下图所示；

选中设计创意图层，用【矩形选框工具】选中创意连个字，按【ctrl+X键】剪切，再按【ctrl+V键】原位粘贴，锁定图层透明像素，图层命名为创意，将设计创意图层改命名为设计，将图层一命名为创意设计，如下图所示；

双击创意图层，打开【图层样式】，选择【斜面和浮雕】，然后选择【描边】，参数如下图所示；

继续对创意图层进行添加效果，选择【内阴影】，参数如下图所示；

继续对创意图层进行添加效果，选择【投影】，参数如下图所示；

选中设计图层，将其填充为暗绿色，双击打开【图层样式】，添加【斜面和浮雕】效果，参数如下图所示；

继续对设计图层进行添加效果，选择【描边】，参数如下图所示；

继续对设计图层进行添加效果，选择【内阴影】，参数如下图所示；

继续对设计图层进行添加效果，选择【投影影】，参数如下图所示；

按【ctrl+G键】将设计图层和创意图层进行编组，按【ctrl+shift+N键】新建一个图层，剪切到组1图层上，如下图所示；

按【ctrl键】点击创意图层，调出创意的选区，选择【修改】-【收缩】，收缩13像素，选择剪切蒙版图层填充为白色，如下图所示；

同样，按【ctrl键】点击设计图层，调出设计的选区，选择【修改】-【收缩】，收缩13像素，选择剪切蒙版图层填充为白色，如下图所示；

选中剪切蒙版图层，选择【滤镜】-【模糊】-【高斯模糊】，半径为4.3像素，如下图所示；

给剪切蒙版图层添加蒙版，使橡皮擦，不透明度为30%，给设计字体适当擦除调整，如下图所示；

新建图层，创建剪切蒙版，按住【ctrl键】点击创意图层，调出创意的选区，选中剪切蒙版，选择【画笔工具】，使用画笔擦除想要的高光地方，如下图所示；

同样，新建图层，创建剪切蒙版，按住【ctrl键】点击设计图层，调出设计的选区，选中剪切蒙版，选择【画笔工具】，使用画笔擦除想要的高光地方，修改【图层模式】为叠加，不透明度为80%，如下图所示；

选中背景图层，选择【渐变工具】，渐变为径向渐变，参数如下图所示；

将墨迹素材放入图层，【混合模式】改为正片叠底，【不透明度】为60%，如下图所示；

将创意设计图层眼睛打开，复制创意设计图层，将创意设计图层眼睛关闭，选择创意设计拷贝图层，选择【模糊】-【动感模糊】，调整其大小位置，参数如下图所示；

锁定创意设计拷贝图层像素，填充暗绿色，如下图所示；

到这里，创意设计的字体设计就做好了。

以上就是使用PS和AI设计【创意设计】艺术字的过程，希望大家喜欢，请继续关注PSD素材网(www.PSD.cn)。